定制金屬掩膜板，卓力達公司長期供應高精度金屬掩膜板，不銹鋼掩膜板，價格實惠，量大從優。

產品可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備太陽能電池，光電探測器，LED，激光器，場效應晶體管等各種器件電極及各種薄膜材料圖形設計。
我們已與北京大學，清華大學，中科院蘇州納米所，中科院深圳先進院，蘭州物化的，合肥物質所，武漢大學，華中科技大學，中科院昆明植物研究所，北京航空航天大學，山東大學，浙江大學，吉林大學，華南理工，中山大學，東南大學，蘇州大學，太原理工大學等國內眾多的高校和科研院所以及高技術企業形成了長期合作關系，積累了豐富的設計和制備經驗，具備諸多優勢。
卓力達公司的掩膜板制備工藝主要采用曝光腐蝕工藝（與光刻法在硅表面制備高精度的圖案類似），這種方法可以根據客戶要求靈活設計各種圖案，且制備出來的圖案尺寸標準。我們的圖案尺寸精度可以達到0.01mm以上，邊緣銳利無毛刺，開孔直線度好，真圓度好。

在材質的選取方面，我們選用高韌性的SUS304 H不銹鋼材料，這樣做出來的掩膜板不但精度高，而且表面光滑，產品不易受彎折而變形，經久耐用，同時還能夠讓掩膜板與器件保持很緊密的貼合，減少陰影效果。
我們所采用的不銹鋼厚度包括0.03mm,0.05mm,0.06mm,0.08mm到1 mm的各種尺寸，采用較薄的不銹鋼制備出來的掩膜板所產生的陰影效果會更少,擾度更可控。
本公司承接各種圖案定制，客戶最好能提供包含尺寸的CAD版設計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩模板設計提供一些建議。
下面先舉幾個定制金屬掩膜板的實例，后面再解釋幾個定制金屬掩膜板的設計技巧。
如下圖所示是各種圖案實例。

上圖為各種圖形的實例，實際上可做的圖形圖案種類更多

如下圖所示是各種柵線電極圖案及其對應的設計圖，圖中掩膜板尺寸為9cm*9cm,柵線最小尺寸為0.1mm。

上圖為設計的掩膜板的尺寸圖，其中對縫隙的要求比較高，不可以在縫隙中產品毛剌，凸點，缺口，否則會對掩膜板圖形產生擾度

下面圖為對應的圖紙加的實物圖片

以下為各種的掩膜板圖紙和實物相應的對照圖，即用我們的蝕刻工藝，可以最大程度的節省成本，完成掩模板的制作。

以上為掩模板實物對比圖二，下面增加另一種圖案對比

以下為其它掩膜產品圖片

上圖是掩膜+固定夾具的設計，防止掩膜移動。

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